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联电尔必达 合攻日本市场

  联电昨(17)日宣布,与全球DRAM大厂日商尔必达(Elpida)合作,由尔必达提供12寸晶圆制造产能,联电提供矽智财支援与逻辑技术,携手进军日本晶圆代工市场,此举不但有助联电拓展订单,也将为联电旗下矽智财公司智原科技带来日本客户。

  联电与尔必达昨天宣布这项针对日本客户进行的合作计画,采用包含系统单晶片技术在内的先进制程技术,在尔必达公司座落日本广岛的12寸晶圆厂使用。

  联电董事长兼执行长胡国强表示,这项结盟是去年10月双方在低介电质铜导线DRAM与P-RAM技术合作的延伸,由于合作进展顺利,促使两家公司寻求更多在研发以及生产制造上的合作,以因应日本客户日益增强的晶圆专工需求。

  联电表示,目前有愈来愈多的日本整合元件厂,随着全球产业趋势的演进,采取轻晶圆厂(fab-lite)策略,停止自行制程技术研发,缩减或删除资本密集的制造活动。由于两家公司有不同的技术背景,透过这次合作,将可同时满足日本客户在技术与制造产能的需求。

  尔必达总裁暨执行长Yukio Sakamoto表示,对日本晶片设计公司来说,尔必达具有争取委外订单的优势,尔必达将专注于为手机元件与消费性数位电子产品的客户生产DRAM,透过稳定的获利表现,业务也将得以持续成长。

  去年10月联电与尔必达宣布合作时,当时双方宣布交互授权,并由尔必达提供未来联电发展系统单晶片(SOC)所需的DRAM技术,联电则提供尔必达发展先进制程所需的低介电质铜导线专利。

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