IBM首次突破32nm限制 应用平版印刷

    据国外媒体报道，IBM在近期内将会给大家展示他们的新成果，即IBM已经突破应用于光学平板印刷的制造芯片方面的技术，达到了32nm。现在，大多的制作技术还不能够在32nm的微处理器上进行蚀刻。但是IBM克服了这一困难，可以以29.9nm的宽度进行蚀刻，完成了193nm纵深紫外线(DUV)光学平版印刷术的开发。

　　IBM的博士Robert D Allen表示，IBM阿尔马登的研究中心的平版印刷术相关的管理人，我们的目标是不断的推进光学平版印刷技术，让其发展到一个顶峰，直到不能再继续，然后往其它的方向发展。这次研究的成功证明了，莫尔定律在芯片制造方面至少还有7年的发展空间。

　　现在大多的处理器的采用的还是90nm技术，英特尔刚开始步入65nm台阶。
　
　　IBM计划在SPIE微蚀刻技术国际研讨会上展示它的这一成果。