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意法拟向Crolles项目投资18亿美元 开发45纳米工艺

  据法国杂志《Les Echos》报道,在法国政府同意向意法(ST)半导体在法国Crolles和Grenoble的设施提供补贴不久,意法半导体就宣布将于2008-2012年在Crolles投资12亿欧元(约合18亿美元),这是一个开发项目的组成部分。

  《Les Echos》指出,作为这个开发项目的一部分,意法半导体及其伙伴IBM将开发用于下一代IC的制造工艺(包括45纳米制造工艺)。《Les Echos》报道称,在飞思卡尔半导体宣布退出Crolles研究与制造项目一年之后,据称它正在商讨加入上述新的开发项目。

  法国政府表示,这项交易的目标是为了维持意法半导体的“独立性与股份稳定性,同时促进其长期发展以及加强它在法国纳米技术领域中的地位”。

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