Pixer Technology日前在美国San Jose举办的SPIE Advanced Lithography会议上推出两款新设备，CD控制设备CDC200及紫外测量系统Galileo。
CDC200具有高分辨率CD控制能力，适用于掩模制造及IC制造过程中的CD控制，将显著提高CD一致性。
据Pixer战略市场部主管Steven Labovitz介绍，CDC200将能够满足全球半导体技术蓝图（ITRS）所制定的45nm及32nm工艺CD一致性的需求。
另外所推出的Galileo是业界首款高速高分辨率深紫外测量设备，可用于分辨率可达到0.1%，而高的分辨率并没有以检测速度为代价，它可在20分钟内完成1000多个样品点的测量。
Labovitz称，在45nm工艺中，掩模板的透过不均匀性（transmission non-uniformity）所带来的影响将占到CD不一致问题的40%以上，而Galileo将帮助客户有效提高掩模板的均匀性。
