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意法半导体开始面向试制用途提供45nm CMOS工艺

  意法合资公司意法半导体(STMicroelectronics)与CMP (Circuits Multi Projects)宣布,将面向试制用途提供意法半导体开发的45nm CMOS工艺。通过试制品及少量生产用IC的代理商CMP,向大学、研究机构以及企业提供用于新一代系统级芯片(SoC)的45nm CMOS工艺。

  另外,两公司还宣布将面向学术研究用途提供采用SOI底板的65nm CMOS工艺。该工艺也通过CMP提供。意法半导体表示,采用SOI底板时,可以使LSI的性能比采用Bulk底板时更高,还可以降低耗电量。该公司表示,已有100多家大学获得了采用该公司Bulk底板的65nm CMOS工艺设计规则和设计套件。此次发布也包括这些内容。

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