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浸没式光刻设备驱动ASML销售收入增长 08年持乐观态度欲翻倍

  日前,全球领先光刻设备制造商荷兰ASML发布了2007年财政报告,2007财政年销售收入为56亿美元(38亿欧元),增长了5.9%。同期净收入增长了10.1%,达到了10亿美元。净收益占销售收入的18.1%,而在2006年为17.4%。

  2007年第四季度销售收入14亿美元,较上季略增3.5%,相比于去年同期,下滑幅度近10%。第四季度净收入3.02亿美元,占销售收入的21.2%,这一比例开创了ASML的新纪录。公司第四季度收到54套设备订单,包括45套新设备及9套二手设备,订单额达到12亿美元。

  此成绩的取得主要得益于对领先的浸没式光刻系统的需求趋势。ASML总裁兼CEO Eric Meurice表示,尽管2007年全球半导体笼罩在阴霾之中,但是我们证实了ASML在设备市场的活力,实现了销售额及净收入的增长。

  据ASML CEO Eric Meurice介绍,由于对高端设备需求的增长,尤其是在第四季度半导体工艺节点推进到40nm以下对浸没式光刻系统的需求,07年全年光刻系统的平均销售价格出现增长,新系统的平均销售价格为1650万欧元。自从ASML的旗舰产品XT1900i在去年七月发布以来,已经有20套系统出货。

  对于可预见的将来,该公司仍然很乐观,尽管半导体业界预测资本支出将放缓。“第二梯队的存储器制造商目前很不稳定的资本开销对我们的影响相对较低”,Meurice表示:"我们期待2008年浸没式光刻系统的净销售比2007年增长近一倍" 。对于2008年第一季度,他期望能够出货50套系统,包括平均价格为1890万欧元的新系统。

  另一家半导体设备大厂应用材料公司近日表示,迫于半导体行业的不景气,计划裁员1000名来控制成本。

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