据日经BP社报道，尼康将于2007年12月15日上市支持300mm晶圆（半间距为40nm）最新半导体量产线的自动宏观检查设备AMI-3400。该设备应用了波动光学原理。可以通过全面、高速地检测晶圆的剖面形状变化，将检测信息反馈给包括曝光装置在内的主要生产设备，来提高工艺管理效率。
AMI系列的特点是能够以与扫描电子显微镜（SEM）相当的灵敏度对所有晶圆进行全面高速检查，从而检测出曝光装置焦点变化引起的图案剖面变化。
新产品AMI-3400作为用于半间距40nm量产工艺的检查装置，能够对应节点检测需求并提高检测灵敏度，在对300mm晶圆进行全面检查时，处理能力达到了160片小时以上。由于能够对不同工序的合格品范围抽取出复数个独立的图像特征值进行学习，来抑制制造工艺变化的影响，不降低检测灵敏度便可完成检测。
另外，尼康在2007年12月5～7日于幕张MESSE会展中心（千叶市）举行的SEMICON JAPAN 2007上对该检查装置进行了展板展示。
