KLA-Tencor推出光刻优化工具 降低 RET/OPC成本

    KLA-Tenco推出基于 Linux 的新型产品 LithoWare，该系统可帮助半导体电路设计人员大幅度降低 RET* 和 OPC* 工艺开发的时间和成本。LithoWare是一款基于业内标准的PROLITH 模型的光刻优化工具，它允许客户同时优化 RET 和工艺条件，并将校准数据采集降至最少，从而有效缩短从设计到生产的时间。

    “LithoWare 拥有无可比拟的预测精度以及在 Linux 计算机集群上运行的特性，它为 RET 开发人员提供了双项优势。”KLA-Tencor Corporation 工艺分析事业部总经理 Edward Charrier 表示。“RET 工程师可利用 LithoWare 独有的灵活性和预测能力，在探索光刻工艺条件（如：光源照明、最新光刻胶、PEB 和其他等）的同时，优化其 OPC。通过 LithoWare，他们还可更快地创建 RET 菜单，并确保其在整个工艺窗口中都能正常工作，从而增强设计的稳定性和可生产性。”

     目前大多数 EDA 产品运行于 Linux/Unix 环境下，因此同样基于 Linux 的 LithoWare 可全面兼容这些产品。用户可通过 LithoWare 装载 GDSII 文件，选择多个摸拟区域，互动改变光照条件和 OPC 修正，并将 OPC 修正后的掩膜图样输出为 GDSII 文件。  

     最近的估计表明，32 纳米开发需数以亿计的光刻摸拟计算。LithoWare 运行在 Linux 环境下，可将大量模拟工作量分布到很多台计算工作站上进行，从而允许工程师执行先进的光刻计算，并探索扩展的工艺参数，而这些在 PC或其他工具上都是无法实现的，因为它们无法承担每次变化所带来的大量重复校准工作。LithoWare 基于 Linux 的架构还可有效利用客户现有的计算机投资，而无需配置额外的硬件。LithoWare 现已应用于美国和日本的 IC 公司，帮助提升其 RET 开发效率。 

     Charrier先生介绍说：“用于全晶片 RET/OPC 的常规产品在不同光照情况下预测能力非常有限，而且不支持不断的工艺变化，它们需要耗时、昂贵的工艺程序，包括掩膜加工、晶片印刷、测量和设备校准等等，这往往需要几天、几周甚至几个月的时间。LithoWare 提供独有的‘假设分析’功能，可动态地优化大量工艺和 RET 变量，使得工程师一次就能获得准确结果。”

     与许多传统产品相比，LithoWare为RET/OPC 工程师和设计人员提供了更加方便易用的工具。由于它可帮助 RET/OPC 工程师或设计人员快速检查设计或新创意是否违反光刻条件，因而能够缩短开发周期。这些 RET/OPC 技术人员无需等待工艺工程师或代工厂合作伙伴提供专门的工艺信息和结果。  

     KLA-Tencor 计划于6月4-9 日在圣地亚哥即将举行的设计自动化会议(Design Automation Conference 2007)上展示 LithoWare。