1 光刻工艺的质量要求
1.1 图形完整、尺寸准确、边缘整齐、陡直
1.2 图形内无针孔
1.3 图形外无小岛
1.4 套合精确、无污染
2 光刻缺陷的影响及形成原因
2.1 光刻缺陷及影响
2.1.1浮胶及影响
2.1.2毛刺、钻蚀及影响
2.1.3针孔及影响
2.1.4小岛及影响
2.2 光刻缺陷形成的原因
2.2.1 与衬底表面状况有关
2.2.2与光刻胶的质量有关
2.2.3与光刻版的质量有关
2.2.4与光刻工艺条件控制有关
课程重点：本节介绍了光刻缺陷及光刻缺陷的影响，讨论了光刻缺陷的形成原因 。对于光刻缺陷本节给出了四种由光刻工艺产生的缺陷，即浮胶、毛刺与钻蚀、针孔及小岛，并对四种由光刻工艺产生的缺陷的存在对期间制造工艺及性能的影响进行了讨论。本节讨论了光刻缺陷的形成原因，指出衬底表面状况好坏、光刻胶的质量好坏、光刻版的质量好坏和光刻工艺条件控制的适当否均会成为导致光刻缺陷的形成的原因 。
课程难点：光刻缺陷的形成与哪些衬底表面状况的好坏有关系，什么关系。光刻缺陷的形成与哪些光刻胶质量的好坏有关系，什么关系。光刻缺陷的形成与哪些光刻版质量的好坏有关系，什么关系。光刻缺陷的形成与哪些光刻工艺条件控制的适当否有关系，什么关系。
基本要求：要求了解光刻工艺实施的质量要求。要求了解在光刻工艺实施过程中有哪些光刻缺陷的形成；知道什么是针孔、知道什么是小岛、知道什么是浮胶、知道什么是毛刺与钻蚀。知道浮胶、毛刺与钻蚀、针孔及小岛 这些光刻缺陷与哪些光刻工艺实施的因素有关。
