课程内容：
1 离子注入及其原理
1.1 离子注入掺杂
1.2 离子注入设备及工作原理
1.2.1 离子源
1.2.2 初聚系统
1.2.3 磁分析器
1.2.4 加速器
1.2.5 扫描器
1.2.6 偏束板
1.2.7 靶室
1.3 离子注入的杂质分布曲线
1.3.1 离子注入杂质分布的峰值在体内
1.3.2 峰值以内的杂质分布为高斯分布
2 晶格损伤及处理
2.1 晶格损伤
2.1.1 损伤原因
2.1.2 影响晶格畸变的因素
2.1.3 晶格损伤对器件性能的影响
2.2 晶格损伤的处理-退火工艺
2.2.1 退火的目的
2.2.2 退火的结果
2.2.3 退火的方法
3 离子注入优缺点
3.1 离子注入优点
3.2 离子注入缺点
4 离子注入的应用
