晶片有机残余物

有机残余物是含碳的化合物，例如指纹中的油分。这些残余物可以在溶剂浸泡池中被去除，例如丙酮，乙醇或TCE。一般说来，要想将晶片表面的溶剂完全烘干非常困难，所以如果可能，会尽量避免用溶剂清洗晶片。另外，溶剂经常会有杂质，从而使其本身成为了污染源。