网站首页
IC库存
IC展台
电子资讯
技术资料
PDF文档
我的博客
IC72论坛
ic72 logo
资料首页最新产品 技术参数 电路图 设计应用 解决方案 代理商查询 IC替换 IC厂商 电子辞典
关键字: 技术文章 PDF资料 IC价格 电路图 代理商查询 IC替换 IC厂商 电子辞典

光刻底版及其制备

课程内容:

1 超微粒干版(乳胶版)

1.1 乳胶的成分与作用

1.1.1 乳化剂的成分与作用

1.1.2 分散介质的成分与作用

1.1.3 辅助剂的成分与作用

1.2 超微粒干版的制备工艺

1.2.1 制备工艺流程

1.2.2 工艺流程中的几点说明

2 铬版制备与复印

2.1 铬版的制备

2.1.1 蒸发制备铬版的条件

2.1.2 蒸发制备铬版的要求

2.2 铬版的复印

2.2.1 复印前的准备工作

2.2.2 复印工艺

2.3 铬版的优点

2.3.1 使用寿命长

2.3.2 分辨率大、反差大

2.3.3 化学稳定性好

3 氧化铁版的制备与复印

3.1 氧化铁版的优点

3.1.1 生产设备简单、操作方便

3.1.2 具有更高的分辨率

3.1.3 膜的结构比铬版更致密

3.1.4 耐磨性更强

3.1.5 可见光范围透明、紫外光范围不透明

3.1.6 为自动制版提供了途径

3.2 氧化铁版的制备

3.2.1 化学气相淀积法

3.2.2 涂敷分解淀积法

3.3 氧化铁版的复印

课程重点:本节介绍了用于制版工艺的三种光刻底版的定义和具体的内容。关于超微粒干版的构成指出:是由玻璃基片加乳胶涂敷构成的;介绍了构成的乳胶成分与作用,其中介绍了乳化剂的成分与作用,指出:乳化剂是由硝酸银和卤化物组成、常用的卤化物是溴化钾,而其作用是作为感光后发生光化反应的主体存在;介绍了分散介质的成分与作用,指出:分散介质是由明胶构成的,而其作用是在超微粒干版的制造过程中和制造完成后始终起到分散、均匀乳化剂的作用;介绍了辅助剂的成分与作用,指出:辅助剂是为改进超微粒干版性能而引入的,根据要求改进超微粒干版的性能不同分为多种,诸如增感剂、防灰雾剂、坚膜剂等等,不同成分则作用不同。关于超微粒干版的制备工艺,给出了制备工艺流程并对制备工艺流程中的几个重要部分给出了说明,诸如玻璃基片选择的重要性、如何防止卤化银颗粒长大、有关流程中的两次冷冻工艺、切条水洗的作用以及抽滤的作用等。本节介绍了铬版制备与复印;对于铬版的制备,指出是由玻璃基片加铬膜构成的,而铬膜制备通常是由蒸发工艺完成的,讨论了蒸发制备铬版的条件(诸如铬源的纯度要求、蒸发时真空度要求、蒸发时玻璃基片要求),讨论了蒸发制备的铬版的要求;对于铬版的复印,介绍了复印前的准备工作(划版、铬版的净化处理、烘干处理等),讨论了铬版复印的工艺流程(涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、腐蚀、去胶类似于光刻的工艺流程,只是曝光是在复印机上完成的);对于为什么采用铬版作为生产版,给出了铬版的两条优点。本节介绍了氧化铁版的制备与复印,首先介绍了氧化铁版的优点,给出了诸如生产设备简单操作方便、具有更高的分辨率、膜的结构比铬版更致密、耐磨性更强、可见光范围透明而紫外光范围不透明、为自动制版提供了途径六条优点,其中具有更高的分辨率、可见光范围透明而紫外光范围不透明、为自动制版提供了途径等优点为其在大规模集成电路制造中的应用奠定了基础;介绍了氧化铁版的制备工艺,在可用的几种方法中,讨论了常用的化学气相淀积法和涂敷分解淀积法制备氧化铁版的工艺;讨论了氧化铁版的复印,指出:除其腐蚀方法不同于铬版复印外,工艺过程与铬版复印完全相同。

课程难点: 用于制版工艺的三种光刻底版的定义、区别及其对于各自应用于制版工艺的特殊意义。超微粒干版的构成;构成超微粒干版中乳胶的各种成分;乳化剂在乳胶中起什么作用,乳化剂的成分构成,各种成分在乳化剂中各起什么作用,作用原理是什么;分散介质在乳胶中起什么作用,分散介质的成分构成,明胶在乳胶中如何在超微粒干版的制造过程中和制造完成后始终起到分散、均匀乳化剂的作用的,作用原理是什么;辅助剂在乳胶中起什么作用,辅助剂的构成与超微粒干版的待改善性能的关系如何,其中增感剂的成分、作用及作用原理、防灰雾剂的成分、作用及作用原理、坚膜剂的成分、作用及作用原理以及需提高分辨率时可加入的辅助剂; 超微粒干版的制备工艺流程,工艺流程中各步骤的作用, 各步骤的作用原理。铬版的构成,构成 铬版的铬膜的制备工艺、制备工艺条件及其对制备出的铬膜的质量要求;有关铬版的复印工艺及要求。氧化铁版的优点、哪些优点使其在大规模集成电路制造中得到良好的应用,氧化铁版的构成,构成氧化铁版的三氧化二铁膜的各种制备工艺、常用的不同制备工艺条件及其对制备出的三氧化二铁膜的质量要求;有关氧化铁版的复印工艺及要求。


基本概念:

1 超微粒干版-由乳化剂、分散介质和辅助剂构成的乳胶涂布而成的感光性底版。其主要成分为明胶,则也称为明胶版。

2 铬版-由铬金属膜构成的非感光性底版。为金属膜版。

3 氧化铁版-由三氧化二铁膜构成的选择性感光性底版。为金属氧化物膜版。

4 明胶-天然高分子化合物,分子量在一万到五万之间,能溶于热水,溶化后为呈一定粘度的胶体。

5划版-按光刻版的大小要求划开底版。

基本要求:要求清楚的知道用于制版工艺的三种光刻底版的定义、区别及其对于各自应用于制版工艺的特殊意义。清楚知道超微粒干版的构成,知道构成超微粒干版中乳胶的各种成分。清楚知道乳化剂在乳胶中起什么作用,了解乳化剂的成分构成,知道各种成分在乳化剂中各起什么作用,作用原理是什么。清楚知道分散介质在乳胶中起什么作用,了解分散介质的成分构成,知道明胶在乳胶中如何起到在超微粒干版的制造过程中和制造完成后始终分散、均匀乳化剂的作用的,作用原理是什么。清楚知道辅助剂在乳胶中起什么作用,知道辅助剂的构成与超微粒干版的待改善性能的有什么关系,知道其中增感剂的成分、作用及作用原理;知道防灰雾剂的成分、作用及作用原理;知道坚膜剂的成分、作用及作用原理;以及知道需要提高分辨率时可加入什么辅助剂。清楚 超微粒干版的制备工艺流程,知道工艺流程中各步骤的作用以及各步骤的作用原理。了解铬版是如何构成的,知道构成 铬版的铬膜的制备工艺、制备工艺条件及其对制备出的铬膜的质量要求。熟悉有关铬版的复印工艺及复印工艺要求。清楚氧化铁版的优点、知道哪些优点使其在大规模集成电路制造中得到了良好的应用。知道氧化铁版的构成,了解生成构成氧化铁版的三氧化二铁膜的各种制备工艺、知道常用的各种制备工艺、制备工艺条件及其对制备出的三氧化二铁膜膜的质量要求;清楚有关氧化铁版的复印工艺及要求。

第六章 制版工艺与原理作业

思考题:3题



热门搜索:TLP404 PS2408RA B20-8000-PCB PSF3612 RS1215-20 BTS410F2E6327 UL24RA-15 B30-8000-PCB SBBSM2120-1 LC1200 2838322 BT05-F250H-03 2856032 ADC128S102CIMTX BSV17-16 TLP76MSG IS-1000 TLP1008TEL TLM812SA 02B0500JF B40-8000-PCB 2838319 PS120406 PS-415-HG 2320306
COPYRIGHT:(1998-2010) IC72 达普IC芯片交易网
客户服务:service@IC72.com 库存上载:IC72@IC72.com
(北京)联系方式: 在线QQ咨询:点击这里给我发消息 联系电话:010-82614113 传真:010-82614123
京ICP备06008810号-21 京公网安备 11010802032910 号 企业资质