光刻母版和掩膜版

光刻工艺是用于在晶圆表面上和内部产生需要的图形和尺寸。将数字化图形转到晶圆上需要一些加工步骤。在光刻制程中，准备光刻母版(reticle)是其中一个步骤。光刻母版是在玻璃或石英板的镀薄膜铬层上生成分层设计电路图的复制图。光刻母版可直接用于进行光刻，也可能被用来制造掩膜版。掩膜版也是玻璃底板表层镀铬。在加工完成后，在掩膜版表面会覆盖许多电路图形的复制（图4.15b）。掩膜版被用整个晶圆表面形成图形。（光刻母版和掩膜版的制做在十一章有详细讲述。)
图4.15解释了从电路设计到图形成行与晶圆之上的过程。光刻母版和掩膜版由工厂单独的部门制造或者从外部供应商购买。它向芯片生产部门按每种电路器件种类提供一套光刻母版或掩膜版。