| TG2U型光刻机主要技术参数见下表： | 项目 | 参数 | | 适用的掩模尺寸 | a.100X100X2－3mm；b.75X75X2—3mm；c.63X63X2—3(选购)； | | 适用的硅片尺寸 | φ35—75mm | | 光刻图形线条 | 3-4μm, 最细可达2μm | | 掩模与硅片之间的相对位移范围 | X/Y±2.5mm,(族转) ±6° | | 承片台(硅片)绕主轴旋转 | 粗调360度,可微调 | | 承片工作台综合移动范围 | X,Y合成φ75mm | | 承片台的球座平面至掩模板面升降 | 0—7.5mm | | 曝光灯源 | GCQ200W超高压汞灯，曝光波长，300―436nm | | 曝光系统能量不低于 | 7mw | | 曝光系统的照度均匀度在φ75mm范围内 | ±5％ | | 显微镜的照明波长 | ≈545nm | | 曝光时间控制范围 | 0.1秒—99分 | | 双目显微镜的放大倍数 | a.目镜共二种:10X,16X；b.平视场物镜共三种:6X,9X,15X；c.合成放大倍率:60X—240X；
| | 真空接触压力 | ≥0.7kgf | | 装箱尺寸 | 1000X850X980mm(2只) | | 装箱重量 | 200kg | |
