飞兆半导体推出N沟道MOSFET 为等离子体显示板优化空间

      飞兆半导体公司(Fairchild Semiconductor)推出全新的FDB2614(200V)和FDB2710(250V)N沟道MOSFET，这两款产品经专门设计，可为等离子体显示板(PDP)应用提供业界领先的系统效率和优化的占位空间。利用飞兆半导体专利的PowerTrench工艺技术，这些MOSFET比较市场上同类型器件提供最低的导通阻抗RDS(on)(FDB2614的典型值为22.9毫欧；FDB2710的典型值为36.3毫欧)。超低的RDS(on) 加上极低的栅极电荷(Qg)，使得该器件具有同级产品最佳的品质因数(FOM)，因而在PDP系统中能获得更低的传导损耗和出色的开关性能。器件极低的导通阻抗配合超小型的芯片尺寸，再加上200V或250V的击穿电压，可以封装在占位面积更小的D2PAK封装中。PowerTrench MOSFET的另一个优势是能够承受高速电压 (dv/dt) 和电流 (di/dt) 开关瞬态响应，有助于提高系统的可靠性。 
     飞兆半导体功率产品部副总裁Taehoon Kim表示：“飞兆半导体的FDB2614和FDB2710 MOSFET具有领先的FOM及采用紧凑的D2PAK封装，非常适合于PDP应用中的路径开关。这些器件经过量身度做，可为纤巧的PDP板设计提供高电流处理能力和节省占位空间的封装。飞兆半导体这项产品的推出再次彰显了其决心和能力，为客户解决最紧迫的应用问题。”
      FDB2614和FDB2710的主要功能和优势包括：最低导通阻抗RDS(on) 及低栅极电荷，具备同级产品最佳的FOM (RDS(on) x Qg)，能够提高系统效率；D2PAK (TO-263) 封装，与具有类似RDS(on)的更大型TO-3P封装平面MOSFET比较，能够节省板卡空间；高dv/dt和di/dt处理能力，增强系统可靠性。
FDB2614和FDB2710均为无铅器件，能达到或甚至超越IPC/JEDEC的J-STD-020C标准要求，并符合现已生效的欧盟标准。
      供货
      现提供样品，收到订单后12周内交货。