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硅片与光刻胶的攻坚

半导体材料是芯片制造的"粮食",涵盖硅片、光刻胶、电子特气、靶材、抛光材料等众多品类。2026年,全球半导体材料市场规模预计突破820亿美元,中国大陆凭借密集的晶圆厂建设连续多年成为全球第一大耗材消费市场,本土市场规模超过1500亿元人民币。与此同时,国内新增晶圆产能大量集中于内地,耗材需求持续爆发。
然而,供需结构却呈现明显的"高端紧缺、低端过剩"特征:适配先进制程的12英寸大硅片、ArF/KrF光刻胶、超高纯电子特气、超大尺寸靶材等高端材料供给紧张,而低端产能则相对过剩。这种结构性分化,成为2026年半导体材料市场最核心的特征。
在各类半导体材料中,硅片与光刻胶是国产化最受关注的两大品类。硅片领域,日本及海外前五大厂商占据全球85%以上的市场份额,12英寸大硅片高端市场几乎被海外厂商垄断;光刻胶领域,日本厂商合计掌控全球约52%的市场份额,其中ArF高端光刻胶国产化率不足5%,EUV光刻胶仍处于研发空白阶段。
近年来的出口管制进一步凸显了自主可控的紧迫性。海外将ArF/EUV光刻胶等关键材料纳入管制范围并持续扩围,国内则以关键矿产出口管制进行反制,双方博弈不断升级。在此背景下,国内光刻胶企业正加速在不同技术路线上实现突破:KrF光刻胶已进入批量供应阶段,ArF光刻胶进入小批量导入与客户验证关键期,EUV预研同步启动。12英寸大硅片的国产替代也在持续推进,国内龙头已跻身全球前列。
政策的指向十分明确:"十五五"规划提出,到2030年关键材料自给率不低于80%。当前整体国产化率仅约15%—20%,替代空间巨大。从路径上看,半导体材料国产化将沿着"从低端到高端、从成熟制程到先进制程"的梯度推进:先实现在成熟制程的批量稳定供货,再逐步向先进制程所需的高端材料攻坚。
值得注意的是,AI算力、存储与车规芯片的持续扩产,为国产材料创造了史上最强的替代窗口期。对于材料企业而言,能否在高端品类上实现从"可选项"到"B选项"再到"必选项"的跨越,将决定其能否分享这轮景气周期与国产替代的双重红利。
 

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