在前不久的 GTC 2023 上,英伟达带来了一项突破性的技术——cuLitho计算光刻技术软件库,可将计算光刻加速40倍以上,为推进2nm甚至更先进工艺奠定基础。这项让计算光刻变得更“聪明”的cuLitho技术来势汹汹,号称是英伟达与台积电、阿斯麦、新思科技四大半导体领域巨头密切合作,秘密研发近四年的“核弹”。
在半导体技术高度竞争、激烈博弈的当下,我们既为人类科技进步感到欣喜,同时也不禁对我国的半导体产业发展有着一丝隐忧。cuLitho是否对传统意义上的计算光刻造成冲击?我国的计算光刻发展到什么水平了,能否自主可控?
什么是计算光刻?为何如此重要?
计算光刻虽然不被大家所熟知,但和它密切相关的光刻机可谓家喻户晓。光刻机被誉为半导体工业皇冠上的明珠,而光刻是芯片制造过程中最复杂、最昂贵、最关键的环节。而计算光刻是连接芯片设计和制造的关键技术,在90nm及以下芯片制造中,不可或缺。
计算光刻并非新鲜事物,已经存在了30年之久。芯片沿着摩尔定律不断微缩,光刻机所用的光源不够“细致”,在光刻过程中光线发生衍射效应,设计的掩模版经光刻机成像会产生一些模糊和失真的现象,导致得到的图形与设计版图存在很大偏差。而计算光刻可通过优化掩模图形的复杂数学运算来补偿模糊和失真,帮助光刻机更好地“刻画”出芯片的微小结构,从而实现更高的分辨率,避免一些错误和缺陷,提升良率。
