三星5nm FinFET 工艺在功耗、性能和面积 (PPA) 方面表现优异，其本身具备的增强功能，结合更加精细的5nm 几何尺寸，能够获得比前几代工艺节点更为出色的性能提升。
三星电子设计支持团队副总裁 Jongwook Kye 表示：“三星与 Mentor 的合作由来已久，我们的共同客户能够以此充分使用Calibre 解决方案的各种功能。现在，Calibre 和 AFS 都已通过最新的三星Foundry的工艺认证，双方的专业知识再次结合，帮助设计人员快速开发和验证创新型 IC，以应对各种高速增长的市场和应用需求。”
除 Calibre nmDRC 之外，同时通过三星Foundry的最新工艺认证的Mentor 工具还包括：
● Calibre? xACT - 该工具能够解决与先进纳米设计相关的技术挑战，包括多重曝光、FinFET、局部互连、高复杂性和更严苛的约束条件。其独特的混合引擎提供了场求解器的高精度，这对于FinFET 这类的精细3D 结构而言至关重要，此外Calibre xACT还提供快速的吞吐能力，可迅速完成全芯片设计。
● Calibre? YieldEnhancer - 具备 SmartFill 和ECO Fill 功能，客户可以控制设计平面度，并减少多次设计迭代的周转时间。Calibre YieldEnhancer 还可以通过自动 PowerVia 流程减少 IR 压降，从而帮助客户提升设计的可靠性。三星与 Mentor 合作定制了该工作流程，为其领先的制程技术提供最高数量的过孔加插。
● Calibre? PERC - 该工具采用独特集成的方法对物理版图和网表进行分析，进而将复杂的可靠性验证检查自动化。支持5/4nm 工艺的三星Foundry Calibre PERC 设计工具套件能够提供额外的验证检查功能，帮助客户应对与静电放电和闩锁效应可靠性相关的挑战。
● Calibre? nmLVS 可以作为任何三星Foundry提取流程的前端。Calibre nmLVS致力于解决持续增加的布局复杂性，并满足设计团队的高级计算需求，助其在验证复杂电路的同时，以预期的运行时间实现先进工艺节点设计。
● Calibre? RealTime 数字和定制接口平台 - 该平台利用同样通过三星Foundry认证批量Calibre的设计套件，在数字化和定制的设计流程中即时进行sign-off质量的DRC检查。在先进和成熟节点设计的 DRC 收敛期间，这些接口可带来显著的生产率优势，帮助客户快速优化其手动的DRC 修复，从而能更加专注于其PPA目标。
● AFS平台，该平台助力芯片级系统 (SoC) 设计人员充满信心地完成电路验证。三星Foundry的器件模型和设计工具套件均支持AFS 平台。双方的共同客户能够以此在验证模拟、射频、混合信号、存储器和定制数字电路上，实现比传统 SPICE 仿真器速度更快的纳米级 SPICE 精度验证。
“三星Foundry凭借最新工艺，不断提供高度创新的技术，以应对日趋复杂的 IC 设计难题，”Mentor Calibre 设计解决方案产品管理副总裁 Michael Buehler-Garcia 表示：“我们很高兴能与三星Foundry继续深化合作，并作为其创新解决方案中的关键设计要素，帮助双方的共同客户设计和制造最先进的IC产品。”
