场截止阳极短路沟道IGBT与NPT IGBT的对比
虽然NPT(非穿通)IGBT通过减少关断过渡期间少数载流子注入量并提高复合率而提高了开关速度，但由于VCE(sat)较高而不适合某些大功率应用，因为其n-衬底必须轻度掺杂，结果在关断状态期间需要较厚的衬底来维持电场，如图1(a)所示。-n-衬底的厚度是决定IGBT中饱和压降的主要因素。
传统NPT IGBT的“n-”漂移层和“p+”集电极之间的“n”型掺杂场截止层(如图1(b)所示)显着提高了IGBT的性能。这就是场截止IGBT的概念。在FS IGBT中，电场在场截止层内急剧减弱，而在“n-”漂移层中则为逐渐减弱。因此，“n-”漂移层的厚度和饱和压降得到了显着改善。沟道栅极结构也改善了饱和压降。此外，FS IGBT的场截止层在关断瞬间可加快多数载流子复合，因此其尾电流远远小于NPT或PT IGBT.由此降低了开关损耗和关断能量Eoff。
图1: NPT IGBT(左)和场截止IGBT(右)
同时，出现了一个新的概念--阳极短路IGBT(SA IGBT)：它允许将体二极管以MOSFET的方式内嵌到IGBT中。图2显示场截止沟道阳极短路(FS T SA)IGBT概念的基本结构，其中，“n+”集电极与场截止层相邻，作为PN二极管的阴极，而“p+”集电极层作为FS T IGBT的共集电极。
图2: FS SA T IGBT的截面图
图3: 典型输出特性对比
