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IBM、东京威力科创将携手研发次世代半导体量产技术

全球第2大半导体设备厂商东京威力科创 ( Tokyo Electron )6日发布新闻稿宣布,集团子公司TEL NEXX, Inc.(以下简称TEL )与IBM同意将共同进行一项长达数年的新研发企画,将携手研发次世代半导体的量产技术( 3D封装技术)。东京威力科创表示,将活用IBM位于纽约州的据点,进行一项为期至2014年的共同企划,双方并将活用TEL的先端制造设备,研发可将复杂的封装作业进行效率化生产的方法,目标为早期确立可将MPU等半导体进行纵向堆叠的3D封装技术。

 
据日经指出,TEL于今年5月成为东京威力科创的100%持股子公司,主要从事使用于次世代半导体的直通矽晶穿孔(TSV)设备的生产。据报导,目前半导体业界正加快可实现省能源、缩小封装面积的3D 半导体技术的研发脚步,而TEL和IBM从2009年就开始进行基础技术的研发,故此次计画藉由延长研发时间,早期确立3D封装的量产技术。

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