芯片设备制造商Tegal日前表示，该公司已经以大约360万美元售出超过30项的纳米沉积(Nanolayer deposition, NLD)专利。
Tegal并未透露专利购买者的细节。该公司曾在去年9月时宣布将寻求出售专利。2010年3月，该公司也曾出售其原有的薄膜蚀刻和物理气相沉积产品线给OEM Group Inc.;另外，去年稍早该公司也将深层反应离子蚀刻设备出售给SPTS。
Tegal表示，该公司仍希望能以剩下的NLD技术售价能高于400万美元。目前该公司仍就其专利组合中的Lot 4部份进行讨论，这部份主要是针对铜阻挡层和low-k电介质技术。
“IC设备制造商对Lot 4比较有兴趣，而设备制造商则大多对Lot 1~3有兴趣，”Tegal技术长Robert Ditizio在一份声明中表示。
