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乐思化学隆重推介OrmeSTARTM Ultra Nanofinish? —— 有机金属基PWB表面

    美国康涅狄格州西汉文  (2009年2月17日) – 确信电子 (Cookson Electronics) 旗下乐思化学有限公司 (Enthone Inc) 隆重推介 OrmeSTAR Ultra 印刷线路板表面处理制程。该有机金属基、注册专利的纳米表面处理技术与化学沉镍/金(ENIG)及其他传统的金属表面处理制程相比,有效减少约90%的能量消耗,产生废水更少。与ENIG相比,OrmeSTAR  Ultra 缩短75% 操作时间,减少30%成本,且无“黑焊盘”风险。该先进制程有效提高整个应用及操作过程的效率。

     OrmeSTAR   Ultra   形成的无卤镀层具有优异的无铅可焊性,表面导电性可与纯金媲美。信号传输能力甚至超过ENIG表面处理。该纳米表面处理产生镀层可视性强、便于检测,且在自动在线测试中一次通过率极高,无故障出现。由于没有中间金属存在,焊料直接与铜结合,具备业内焊接结合力最强的焊缝。

     OrmeSTAR Ultra 直接与铜结合而无置换反应,确保槽液寿命长,无空洞,无绿油界面攻击。该耐用镀层在组装印刷错误后擦拭掉无铜氧化发生。热循环之间的间隔时间与其它金属表面处理类似。该制程可应用于PWB制造过程中电性能测试之前。操作温度低,用水量少,槽液寿命长,这些优势使得OrmeSTAR Ultra 成为最环保的HASL制程取代产品。

     OrmeSTAR Ultra提供有机可焊保护膜 (OSP) 的可靠性且应用容易,同时具有金属表面处理的耐久性及性能
 

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