网站首页
IC库存
IC展台
电子资讯
技术资料
PDF文档
我的博客
IC72论坛
ic72 logo
资料首页最新产品 技术参数 电路图 设计应用 解决方案 代理商查询 IC替换 IC厂商 电子辞典
关键字: 技术文章 PDF资料 IC价格 电路图 代理商查询 IC替换 IC厂商 电子辞典

台积电称其已解决造成40nm制程良率不佳的工艺问题

    据台积电公司高级副总裁刘德音最近在一次公司会议上表示,台积电40nm制程工艺的良率已经提升至与现有65nm制程相同的水平,他并表示公司已经完美解决了先前造成40nm制程良率不佳的工艺腔匹配(Chamber matching)问题。

    台积电19日举办了一场庆祝Phase5新厂房完工的庆典仪式,这间厂房隶属于新竹科技园区的台积电Fab12工厂。据悉新完工的Phase5厂房将于今年第三季度起开始批量投产28nm制程产品。

    另据刘德音表示,台积电正在计划兴建Fab12 Phase6厂房,这座Phase6厂房将用于生产22nm制程产品。

热门搜索:ADC128S102CIMTX TLM615SA B30-7100-PCB N060-002 B10-8000-PCB TLM609GF DRV8313PWPR UL17CB-15 BSV17-16 PS3612RA PDUMH15 RS-1215 PS240810 1553DBPCB TLP712B 02B5000JF PS6020 ADS1013IDGSR LC2400 TLP6B PS361220 PS2408 TLM825GF 1301380020 2320319
COPYRIGHT:(1998-2010) IC72 达普IC芯片交易网
客户服务:service@IC72.com 库存上载:IC72@IC72.com
(北京)联系方式: 在线QQ咨询:点击这里给我发消息 联系电话:010-82614113 传真:010-82614123
京ICP备06008810号-21 京公网安备 11010802032910 号 企业资质