11月25日 目前据可靠消息称饱受40nm工艺良品率困扰的第一大半导体代工厂台积电公司已经取消32nm工艺的研发，并将全力研发更具潜力的28nm技术。
尽管已经取消32nm的研发，并不意味着台积电最终止步于40nm。实际上，在今年八月底，台积电就已经研发出了全球首个使用28nm的产品，并且良品率已经达到40nm的水平。
根据台积电的消息，28nm工艺的产品将会有三种类型：28nm高性能高K金属栅极(28HP)、28nm低功耗高K金属栅极(28HPL)和28nm低功耗氮氧化硅(28LP)。并且三种类型产品全部基于32nm的基础上进行研发。目前整个半导体行业对全代工艺28nm的热情相当高涨，既有台积电，也有IBM技术联盟、东芝和NEC等。
