预测在未来五年内全球193纳米光刻胶市场将以年均增长率达27%增长，到2013年时达12亿美元。该数据来自一家电子材料顾问公司的报告。
在先进图形的形成中，对于193纳米光刻胶市场无论干法或者浸液式都会有较大增长。
报告预测2008到 2013年内全球光刻胶及其配套材料市场，包括涂层材料及真空淀积材料。
报告列出全球光刻胶供应商的市场份额，其中三家日本公司，如JSR,东京应化及Shin Etsu化学控制了全球193纳米光刻胶市场的78%,而且可能会继续扩大。
Linx顾问公司已经发布一份新的全球图形材料的预测及市场份额报告,以及每半年出版的一份Novolak和化学敏感胶的市场报告,适用于所有波长及浸液式光刻。
