Rave LLC (美国佛罗里达Delray Beach)日前宣布，已经向新加坡特许半导体公司出售了一套掩膜版雾状（Haze）缺陷去除系统。
Rave向特许半导体出售了Rhazer系统.
Rave表示，Rhazer雾状缺陷去除技术于一年前的SEMICON West 2008上发布。晶圆步进机光刻制程时所造成的结晶状缺陷污染生长一般称为“haze”。Haze形成率会减低晶圆曝光数目并造成光刻线的停滞。针对去除晶圆上的haze，Rave公司推出革命性产品Rhazer haze去除系统。Rhazer系统不能防止haze，但是可以让晶圆厂管理它。
Rhazer系统是干式、基于激光的系统，具备移除光掩膜两面haze的能力。Rhazer系统可以安装在晶圆厂内，而无须将掩膜版送到供应商那里进行湿法清洗。Rhazer系统的清洗制程对光罩吸收材料不会造成损害。Rhazer系统的技术是符合现在环保诉求的”绿”制程技术，而这套系统的占地面积小、低能源消耗、也不会造成有害的水污染。
Rave总裁暨执行长Barry Hopkins表示，特许是其产品测试合作
伙伴，并于2009年初在位于新加坡的Fab 7内评估了Rhazer技术。“特许晶圆厂非常适合Rhazer技术，我们期待双方能从中获得更大的利益”，他说。
特许半导体表示，通过过去几个月的评估，Rhazer系统表现出了其许诺的性能，期待这套新的系统能在掩膜版清洗和控制过程中带来时间和成本的双重节约。
