根据尼康（东京）官方人士表示，公司并没有将其超紫外(EUV)光刻设备研发计划延期。日本野村证券（securities house Nomura）行业专家Richard Windsor认为，尼康已经暂时搁置开发其某些EUV设备，从而可能让ASML Holding NV公司在对这项新兴芯片制造技术进行商业部署时抢得先机。
尼康驳回了这一报告。“我们不会搁浅我们的EUV研发计划，”尼康官方人士表示。“我们仍在全速前进”。
尼康有两款命名为EUV1的EUV alpha设备，其中一套安装在Selete（公司名）。另一套在日本，为英特尔公司所使用。尼康正在着手开发第二版EUV设备---- EUV2，这是一个预生产单元。尼康不打算面向客户推出这一产品，而是将其用做内部使用，以实现加速客户的学习过程。
与此相反，ASML公司计划为客户端推出其“预生产”EUV工具。
据尼康表示，尼康正在开发一款值得投产的设备---EUV3。与Nomura不同， EUV3已经走上正轨并且计划于2012年发布。尼康公司表示，“所以，我们不会推出EUV2；我们将与客户一共改进尼康的设备”。“尼康仍计划在2012年对EUV3进行量产。”
