光刻巨头ASML Holding NV (ASML)公司日期推出了创新光刻平台TWINSCAN NXT，套刻精度(overlay)及生产能力(productivity)显著提高，将有力推动半导体制程蓝图的前进。另外，ASML Research Review称，TWINSCAN NXT平台也适用于双图样曝光(double patterning)技术。
TWINSCAN NXT平台具有创新的晶圆载物台设计，拓展了TWINSCAN系统架构，将有效降低芯片成本。
晶圆载物台由特殊材料制程，重量大大减轻，别致的设计减少了定位时间。这一平台的生产能力提高了30%以上。
另外，新的位置测量系统使得晶圆载物台的定位更加精确，从而使得套准精度提高了50%。
ASML市场技术执行副总裁Martin van den Brink表示，新的平台系统将帮助芯片制造商实现更小尺寸制程。TWINSCAN NXT套刻精度及生产能力大大提高，将能够应用于双图样曝光光刻技术，进行32nm及以下先进制程的量产。
