2007年光刻掩膜市场达到30.1亿美元，其中包括零售厂商和自用厂商的销售额，掩膜市场已成为仅次于硅材料的第二大晶圆制造材料市场。展望未来，2010年掩膜市场预计可达38.9亿美元，并仍保持第二大半导体制造材料市场的位置。目前从销售收入来看，北美是最大的掩膜市场，然而中国台湾预计将在2009年超越北美。
光刻技术不断推进，其中包括极紫外（EUV）、无掩膜（maskless）和纳米压印（nano-imprint）等新技术。目前沉浸式光刻用于45nm工艺量产——除了Intel例外。沉浸式光刻之所以被采用，主要是由于该技术是在原有技术上改进而得，而不是完全革命性的技术。尽管制造商必须购买沉浸式设备，但前期投资以及培训、子系统、激光器、光学材料和涂层等专业技术在沉浸式光刻中均可复用。
