为了缩短光刻掩膜版循环周期，控制成本，日本掩膜版制造商凸版印刷（Toppan Printing）表示，作为业界第一个开发32nm光掩膜制造工艺的制造商，他们于6月开始量产32nm掩膜版，性能已通过了领先向32nm工艺转移的数码相机、移动电话和其他器件的芯片制造商的验证。
Toppan表示，通过引入新材料和修正传统的材料与结构来开发掩膜版；同时开发制造工艺来优化新材料的特性。取代传统精细图形公式的制造工艺，采用基于新的二进制和网板类型，先进的半导体工艺获得了更高的尺寸精度。
