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台积电将在32nm节点引入高k金属栅技术

  台积电为了回应竞争对手,近日透露了更多关于32nm技术的细节,包括引入高k金属栅技术。

  上周,IBM及其联盟宣布在32nm节点将引入高k金属栅技术,并为客户提供代工服务。

  而全球最大的代工厂商台积电目前为止却始终保持低调。“我们将在32nm节点引入高k金属栅技术。”台积电总裁兼CEO Rick Tsai在2008技术论坛上作主题演讲时说道。

  台积电研发副总裁Jack Sun透露,台积电在32nm节点将提供多种可选择方案。对于32nm低功耗工艺,公司计划开发第三代“三栅氧技术”(triple-gate oxide technology)。而对于32nm高性能工艺,公司将为客户提供高k金属栅技术。

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