12月12日，负责维护稳懋内部由芬兰 Picosun 公司所生产的原子层沉积(ALD)设备的台湾原晶公司，在进行例行的维护保养工作时，被指派前来进行维护工作的工程师，原本要趁机抄下机台内的生产参数，不过因为原本预定维护的机台内生产参数已经先行被稳懋所移除。

　　因此，该名工程师拿着稳懋给予的临时启动密码，去启动另一台不在排定维修行程中的设备，并拿出纸笔，准备抄下在其中的参数。过程中，被稳懋员工发现有异，整件事情才被揭发，而该名维护工程师也被移送警方侦办。
涉案工程师对窃密行为供认不讳，检方要求他交保释金6万元并限制离台出海。
之后，检方约询台湾原晶公司42岁庄姓副经理，认为庄某授意窃密，犯罪嫌疑重大，有逃亡、串证之虞，当庭逮捕，向法院申请羁押禁见获准。
检方21日再次发动搜索，兵分4路，约询3人，包括挂名副总经理的台湾原晶公司41岁林姓实际负责人，申请羁押禁见，但法官认为无羁押必要，无保释放林某。
稳懋在国内是生产砷化镓半导体的大厂，为生产用于脸部识别的垂直共振腔面射型雷射(VCSEL)半导体的重要厂商。
因为在生产过程中，需要使用到 ALD 设备来进行晶圆镀膜的过程，而镀膜过程必须不断进行脉冲、气体流量控制等工作，因此，稳懋就自行研发出控制制程过程中包括时间、温度等关键因素参数，以确保产品的品质，该项参数对稳懋在市场上的竞争力来说非常关键。