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  • 提升LED生产品质并降低成本 GTAT导入离子体汽相淀积技术
    http://www.ic72.com 发布时间:2014/3/11 15:17:15


        GTAdvancedTechnologies(GTAT)宣布向KymaTechnologies,Inc.收购其等离子体汽相淀积(PVD)技术及专门知识的独家使用权。Kyma所开发的等离子体汽相淀积柱状纳米技术(PVDNC(TM))可以在氮化镓沉淀前,在晶圆上沉积一层高品质的生长型初始层氮化铝。

      GT计划将等离子体汽相淀积工具商业化,以配合其正在研发的氢化物气相外延(HVPE)系统,该组合将令LED生产商可以在图案化或平面晶圆上,用更低的成本生产更高产量的氮化镓模板。

      GT已经有一个可以用于大量生产的原型工具,结合Kyma的等离子体汽相淀积柱状纳米技术,预期到2015年上半年即可提供量产工具。

      GTAT的总裁兼首席执行官TomGutierrez表示:“Kyma创新的“柱状纳米”PVDNC技术为我们不断扩张的LED生产基地带来了重要的补充。我们的目标是提供一系列的解决方案,以提升LED的生产品质及降低成本。将GT的PVDAlN工具与我们正在研发的HVPE系统相结合,预计可让LED生产商以比现行生产技术更低的成本生产出开盒即用晶圆。”

      Kyma的总裁兼首席执行官KeithEvans表示:“我们非常高兴GT决定将我们的等离子体汽相淀积柱状纳米技术商业化。经过多年创新及生产AIN模板,我们深信柱状纳米AlN薄膜将为LED行业带来实实在在的好处。”

      目前,将氮化镓沉积在开盒即用的晶圆时,需要使用较为昂贵而且进程缓慢的MOCVD工具。透过结合PVD与HVPE这两个流程,将可以生产低成本的氮化镓模板,厂商将能够利用现有的LED生产线扩产;另外,由于他们需要的MOCVD工具更少,此举也可以降低其资本开支。
     


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