Nvidia公司CEO 黄仁勋将在10月中下旬赴台会见主板和显卡合作伙伴。黄仁勋预计还将和台积电主席张忠谋会面，讨论40nm制程的合约价。

　　黄仁勋预计还将查看台积电的40nm工艺，台积电宣称7月该公司40nm工艺良率已从30%升至60%，到10月缺陷密度将降至0.2。黄仁勋还将查看Nvidia即将在12月上市的GT300 GPU的进展。

　　同时，张忠谋准备和黄仁勋讨论双方在28nm工艺上的合作，台积电28nm工艺将在2010第一季度试产，并在2011年对外销售。

　　黄仁勋还将拜访VIA Technlogies，为12月底推出的Ion 2平台做最终确认。