—— 访Cabot Microelectronics中国及韩国董事总经理黎宏宇
当晶圆制造技术从“微米”发展到“纳米”,在制程中如何确保层层堆砌的工艺平整度,化学机械研磨(CMP)就显得相当重要,研磨耗材的用量也随之直线上升。根据中国台湾工研院产业研究数据显示,CMP研磨耗材是半导体制程材料中成长速度最快的材料,估计2003~2008年复合增长率高达10.6%,而在研磨液领域位居霸主地位的Cabot Microelectronics 在该领域市占率高达65%。
Cabot Microelectronics前身原本是百年企业Cabot Corporation的一个部门,2000年4月开始从母公司剥离成立独立的Cabot Microelectronics。用“历史悠久的新公司”来形容Cabot Microelectronics最为贴切。
人们常说一家企业中骨干的作风最能体现这家企业的风格,当笔者第一次见到Cabot Microelectronics中国及韩国董事总经理黎宏宇时,从他的言谈中清晰地体会到Cabot Microelectronics的风格:年轻而老道,年轻是表面的东西,老道才是骨子里的东西。
Cabot Microelectronics产品进入中国时间较早,当时通过Marketech International Corp. (MIC)作为其在中国的分销商,凭借MIC强大的分销网络,Cabot在中国市场站稳了脚跟。正是由于Cabot进入中国研磨液市场时间较早,在这一领域占据很大的市场份额,如何保持领先的市场份额成为Cabot目前最大的挑战。随着近几年Rohm&Haas、日系和台系厂商的加入,CMP研磨液市场竞争日益激烈,黎宏宇表示:“现在客户有太多选择,我们面临越来越多的竞争对手的挑战,我们必须不断地创新,不断给客户提供好的产品。”黎宏宇坦言,“现在的市场竞争比过去激烈得多。”
黎宏宇认为,Cabot的产品的竞争优势在于成本和在先进制程上的研发投入。“我们有很多客户已经开始研发32nm、22nm先进制程,他们更加关心的是能够满足这些先进制程所需的CMP解决方案。”黎宏宇表示,Cabot是仅有的几家在先进制程上投入研发的公司之一,这种对未来的投入对Cabot的业务开展至关重要。
“服务于半导体行业需要的是独特性。”黎宏宇认为,在CMP研磨液市场,给客户提供少量的研磨液样品非常容易,但长期提供大量的、稳定的、高质量的研磨液并不简单。而Cabot专注于CMP领域,在这方面经验丰富,使得Cabot得以成功。
目前Cabot Microelectronics在台湾设有一个大的销售办公室和一个研发中心,最近才刚刚建成了用于生产CMP研磨垫的制造厂;在日本建有最大的CMP研磨液制造厂,还有一座很大的技术服务中心。据黎宏宇介绍,Cabot目前在中国的办事处规模还很小,主要从事销售业务,但Cabot正在成长。
作为Cabot Microelectronics中国及韩国董事总经理,黎宏宇对于两个市场有着自己独到的看法。在他看来,韩国市场增长被存储器所驱动,而存储器技术更新速度很快,这就需要Cabot与客户非常紧密地合作,随时掌握客户在做什么,以便在第一时间给客户提供新产品来满足客户的需要。而在中国,除SMIC、Grace等几家大的Foundry以外,还有很多小的Foundry,他们的业务有一些不稳定性。另外,中国半导体工业的未来存在很多变数,特别是台湾对大陆的政策一旦改变,将会给中国半导体产业带来很大变化。黎宏宇认为,中国半导体产业还处在早期发展阶段,规模还不是很大,但中国半导体产业将会有很大的成长,“中国市场将是一个非常令人兴奋的市场,我们已经为支持中国市场的高速成长做好了准备。”
随着芯片设计日趋复杂,各个公司为了追求独特性会采用不同的设计方式,作为CMP耗材供应商,Cabot需要与中国的Fab建立更加紧密的合作关系。黎宏宇呼吁中国的Fab能够将工艺制程对Cabot的研发人员开放,以便能够在第一时间开发出适合客户需要的CMP解决方案。