—— 访Cabot Microelectronics中国及韩国董事总经理黎宏宇

    当晶圆制造技术从“微米”发展到“纳米”，在制程中如何确保层层堆砌的工艺平整度，化学机械研磨(CMP)就显得相当重要，研磨耗材的用量也随之直线上升。根据中国台湾工研院产业研究数据显示，CMP研磨耗材是半导体制程材料中成长速度最快的材料，估计2003～2008年复合增长率高达10.6%，而在研磨液领域位居霸主地位的Cabot Microelectronics 在该领域市占率高达65%。

    Cabot Microelectronics前身原本是百年企业Cabot Corporation的一个部门，2000年4月开始从母公司剥离成立独立的Cabot Microelectronics。用“历史悠久的新公司”来形容Cabot Microelectronics最为贴切。

    人们常说一家企业中骨干的作风最能体现这家企业的风格，当笔者第一次见到Cabot Microelectronics中国及韩国董事总经理黎宏宇时，从他的言谈中清晰地体会到Cabot Microelectronics的风格：年轻而老道，年轻是表面的东西，老道才是骨子里的东西。

    Cabot Microelectronics产品进入中国时间较早，当时通过Marketech International Corp. (MIC)作为其在中国的分销商，凭借MIC强大的分销网络，Cabot在中国市场站稳了脚跟。正是由于Cabot进入中国研磨液市场时间较早，在这一领域占据很大的市场份额，如何保持领先的市场份额成为Cabot目前最大的挑战。随着近几年Rohm&Haas、日系和台系厂商的加入，CMP研磨液市场竞争日益激烈，黎宏宇表示：“现在客户有太多选择，我们面临越来越多的竞争对手的挑战，我们必须不断地创新，不断给客户提供好的产品。”黎宏宇坦言，“现在的市场竞争比过去激烈得多。”

    黎宏宇认为，Cabot的产品的竞争优势在于成本和在先进制程上的研发投入。“我们有很多客户已经开始研发32nm、22nm先进制程，他们更加关心的是能够满足这些先进制程所需的CMP解决方案。”黎宏宇表示，Cabot是仅有的几家在先进制程上投入研发的公司之一，这种对未来的投入对Cabot的业务开展至关重要。

    “服务于半导体行业需要的是独特性。”黎宏宇认为，在CMP研磨液市场，给客户提供少量的研磨液样品非常容易，但长期提供大量的、稳定的、高质量的研磨液并不简单。而Cabot专注于CMP领域，在这方面经验丰富，使得Cabot得以成功。

    目前Cabot Microelectronics在台湾设有一个大的销售办公室和一个研发中心，最近才刚刚建成了用于生产CMP研磨垫的制造厂；在日本建有最大的CMP研磨液制造厂，还有一座很大的技术服务中心。据黎宏宇介绍，Cabot目前在中国的办事处规模还很小，主要从事销售业务，但Cabot正在成长。

    作为Cabot Microelectronics中国及韩国董事总经理，黎宏宇对于两个市场有着自己独到的看法。在他看来，韩国市场增长被存储器所驱动，而存储器技术更新速度很快，这就需要Cabot与客户非常紧密地合作，随时掌握客户在做什么，以便在第一时间给客户提供新产品来满足客户的需要。而在中国，除SMIC、Grace等几家大的Foundry以外，还有很多小的Foundry，他们的业务有一些不稳定性。另外，中国半导体工业的未来存在很多变数，特别是台湾对大陆的政策一旦改变，将会给中国半导体产业带来很大变化。黎宏宇认为，中国半导体产业还处在早期发展阶段，规模还不是很大，但中国半导体产业将会有很大的成长，“中国市场将是一个非常令人兴奋的市场，我们已经为支持中国市场的高速成长做好了准备。”

    随着芯片设计日趋复杂，各个公司为了追求独特性会采用不同的设计方式，作为CMP耗材供应商，Cabot需要与中国的Fab建立更加紧密的合作关系。黎宏宇呼吁中国的Fab能够将工艺制程对Cabot的研发人员开放，以便能够在第一时间开发出适合客户需要的CMP解决方案。