日本Nikon日前响应某分析师的质疑，表示该公司的超紫外光(EUV)光刻设备研发计划仍持续顺利进行中。

根据Nikon的官方说法，该公司并未延后其EUV光刻设备研发计划。但日本野村证券(securities house Nomura)的分析师Richard Windsor稍早前却指出，光刻设备专家Nikon已暂时搁置开发某些EUV设备，并因此可能让对手ASML在这项新兴芯片制造技术的商业化上抢得先机。

而Nikon驳斥了上述野村证券的报告，表示：“我们不会搁置EUV研发计划，仍在全速前进。”该公司目前有两款命名为EUV1的第一代EUV设备，其中一套安装在日本芯片研发机构Selete；另一套则在Nikon日本厂，目前供英特尔(Intel)使用。

目前Nikon正在开发第二代EUV设备EUV2，这是一套量产前(pre-production)设备，该公司还不打算出货给客户，将做为内部使用，以加速客户的学习过程。不过与Nikon相反，ASML打算将其量产前EUV工具提供给客户。

接下来Nikon将开发一款量产型设备EUV3；而且与野村证券的预期不同，EUV3已经上轨道并计划在
2012年发表。Nikon表示：“所以我们不会推出EUV2；我们将与客户共同改进Nikon的设备。Nikon仍计划在2012年量产EUV3。”