编辑点评：在谈及芯片技术进步时，除了不断缩小的技术节点，新材料的采用往往可以另辟蹊径。目前谈论较多的是高k介质、金属栅、低k材料等，其它一些较为冷门的材料，如碳纳米管、石墨稀、二嵌段共聚物等也开始进入人们的视野。越是新兴的物质越难以捉摸和测量，这就要求测量技术能够“与时俱进”。本文对新材料为测量带来的挑战进行了概述。

　　工艺技术的进步对测量意味着什么？在日前举行的2009纳米电子测量与表征技术国际会议上，与会者对新兴技术和材料为测量技术带来的挑战交换了观点。

　　首先是芯片尺寸已接近原子级和量子级，这已成为测量领域的一大难题。诸如不断增加的能耗、工艺和器件的多样性，以及器件和互连性能的降低等。对于工程师来说，及时获得工艺信息至关重要，检测手段必须足以满足工艺制程的发展。