Ni1000Si是镍薄膜电阻温度检测器(RTD),适用于接触式检测。它符合以前的DIN 43760标准，并且应用于温度检测、控制和补偿、通用仪器和遥感。该器件是由在硅衬底上PVD沉积而生成的。该薄膜结构覆盖一层钝化层,以适应环境和增加了稳定性。这使得能生产小型、低成本、高精密温度传感器。Ni1000Si的工作温度范围为-5度~160度,且低功耗。该器件具有大电阻温度系数( 0度~00度，为178 ppm/°K)，以及温度和电阻之间的良好线性关系(R vs T).。

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