Intel公司新推出一种名为“P-channel”和“N-channel”的晶体管能够将处理器的功耗降低至当前处理器产品的10％。Intel公司于日前公布了新材料“P-channel”晶体管的更多细节，新晶体管基于的是硅基，使用了一种名为III-V的化合物半导体。大约在一年之前Intel公司就对外描述过基于III-V 材料的“P-channel”晶体管，当时同样基于的是硅基。
　　
根据Intel公司的介绍当同时使用N-channel 和P-channel 两种材料之后就可以制造 CMOS电路块。并且拥有制造未来处理器产品的潜力。值得一提的就是基于新材料的处理器功耗将非常低，工作核心电压将只有当前处理器的50％，功耗只有当前晶体管的10％。

如果这项创新能够在处理器产品上得到应用，那么这将会为我们带来体积更小、功耗更低、性能更加强大的处理器。很显然的是新材料将来还可以应用在显卡以及其他高集成度设备上。

目前，Intel公司正在着力研究新材料的实用化。