半导体设备供应商Aviza Technology日前宣布推出全球首款300mm离子束沉积系统——StratIon fxP。

　　StratIon fxP利用离子束可沉积金属及介电薄膜，300mm晶圆淀积的薄膜粗糙度可低至2埃，不均匀度低至0.5%以下。

　　此款设备已经发货至法国研究组织CEA-Leti-Minatec。Aviza与CEA-Leti签署了三年合作协议，共同开发MTJ（magnetic tunnel junction）沉积工艺，用于磁性存储器MRAM的制程。

　　另外，此设备也将应用于先进CMOS工艺。