沈阳科仪是一家具有半个世纪历史的老企业。公司前身是中国科学院沈阳科学仪器|仪表研制中心，2001年整体转制为有限责任公司。经过半个世纪的发展，沈阳科仪成为集真空仪器装置研发、生产、销售、服务为一体的现代企业。

　　研发资金占收入20%

　　秉承中科院的传统，沈阳科仪重视科技创新，拥有专利50余项，组建有“国家真空仪器装置工程技术研究中心”。公司副总裁张振厚向《中国电子报》记者介绍，公司以高真空、超高真空、超洁净真空技术为基础，主要研制生产大型表面分析仪器、薄膜材料制备设备、纳米材料制备设备、半导体材料制备设备、空间环境模拟装置、真空冶金设备、真空获得以及高档真空器件。

    据张振厚介绍，几年来，公司压缩一切开支，保证研发投入，年研发投入高达公司上年销售收入的20%。在研发中，公司分层次重点部署了IC装备整机、关键部件/子系统等技术。其中，实现了等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备的国产化，该设备零部件国产化率高达70%，技术指标达到甚至超过国际同类产品，已实现销售。在积极推进 6英寸PECVD设备产业化的同时，目前已启动12英寸PECVD研发，并积极组织申请国家“十一五”IC装备重大专项。在子系统方面，公司承担了国家“十五”期间的“863”重大专项子课题“罗茨干泵(机组)”项目，已申请了7项国家专利(其中4项发明专利)，并已获得应用。

    此外，公司自主研发的“涡旋干泵”产品已经应用到各种镀膜设备整机上，正在组织批量生产。“超洁净真空闸板阀”已获3项专利，并获沈阳市专利优秀奖。目前已经实现批量生产，销售势头良好。

　　打好IC设备“翻身仗”

　　近年来，全球集成电路（IC）产业和集成电路装备制造业向中国转移，这又为沈阳科仪的发展提供了新的机遇。张振厚告诉记者，在集成电路生产线上，约有70%的前道工序工艺设备依赖于高真空、超高真空、超洁净真空技术，这正是沈阳科仪多年来所积累的核心技术。为此，沈阳科仪积极建设具有国际先进水平的集设计、研发、生产、营销、服务和培训为一体的沈阳集成电路装备制造基地。

    早在2006年，沈阳市政府宣布的“024工程”中的“2”，即形成两个具有国际影响力的IC装备核心企业集团，就有沈阳科仪。沈阳科仪IC成膜PECVD项目已被列为辽宁省重大科技专项，与其他公司联合申报的“IC装备成膜、匀胶与传输系统”项目成为沈阳市重大科技计划项目之一。张振厚说，自2004年开始进入IC装备领域，沈阳科仪通过开展一系列工作，承担各级科技计划项目，逐步发展成为沈阳地区IC装备骨干企业。