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  • Lam Research发布2300 Versys Kiyo3x刻蚀系列 关键尺寸一致性可达1nm
    http://www.ic72.com 发布时间:2008/6/26 11:26:00

      半导体晶圆设备供应商Lam Research Corporation日前发布了2300 Versys Kiyo3x刻蚀设备,关键尺寸(CD)一致性达到1nm,为双重图样曝光过程所面临的CD及重叠(overlay)挑战提供了解决方案。另外,这套设备还配置有升级选项,灵活经济有效地对高k金属栅极、硬模窗口(hardmask open)、浅沟槽隔离及应变硅等进行刻蚀。

      Lam Research集团副总裁兼刻蚀业务总经理Richard A. Gottscho表示:“当业界向双重图样曝光过渡时,刻蚀工艺变得尤为重要。Kiyo3x系列具有出众的均匀性、吞吐能力以及重复性,有力拓展了市场领先的刻蚀家族系列产品。另外设备所配有的升级方案,给客户带来资本投资价值的最大化。”

      目前已有数套Kiyo3x设备在各大晶圆工厂安装,应用于新兴工艺。


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