近日，台湾友达光电(AUO)发布了用3片掩膜形成TFT阵列的工艺。采用半色调掩膜（Half Tone Mask）与剥离（Lift Off）法，仅用一片掩膜就实现了钝化层(Passivation Layer)的开口与ITO图案的形成，并采用此工艺试制出了1.8英寸TFT液晶面板。
   　
　　据了解，该技术的关键在于将4片掩膜工艺的钝化层（第3片）与ITO层（第4片）两个工序用半色调掩膜（HTM）合并为一个，而ITO图案的形成则采用了剥离法。
   　
　　首先，使用HTM在钝化层打出与周边焊盘相接的开口；然后，对光刻胶进行灰化（Ashing）处理，使形成ITO图案的像素部分曝光，并在形成ITO膜以后，采用剥离方法将光刻胶剥离，除去不需要的ITO层。
   　
　　此次发布的关键点是，为了促使ITO层剥落，采用了准分子激光对光刻胶上的ITO层进行预剥离的方法。提高照射的准分子激光的能量，光刻胶上的ITO会剥离，从而可减轻后续的光刻胶剥离工序的作业负担。
   
　　通过以激光剥离ITO层的工序，可大幅度缩短剥离所需时间。另外，还能够解决因ITO膜混入去除的光刻胶而造成剥离装置维护周期缩短的问题。
        
　　此次AUO采用这种3片掩膜工艺试制出了1.8英寸彩色TFT液晶面板。试制面板的像素为128×160，子像素尺寸为73μm×129μm。