Applied Materials日前发布了其检测最快速功能最强大的掩模检测系统Applied Aera2(TM) Mask Inspection。

　　Applied Materials副总裁兼工艺诊断与控制事业部总经理Ronen Benzion表示，Aera2系统采用了具有革命性的掩模检测技术，能够满足45nm及以下工艺中浸润式及双图样掩模关键缺陷的检测需求。Aera2可应用到所有掩模检测过程中，吞吐能力是当前设备的两倍多。掩模供应商及晶圆制造商对Aera2无可匹敌的能力感到非常兴奋，并已经开始预定该设备。