网站首页
IC库存
IC展台
电子资讯
技术资料
PDF文档
我的博客
IC72论坛
ic72 logo
搜索关键字: 所有资讯 行业动态 市场趋势 政策法规 新品发布 技术资讯 价格快报 展会资讯
  • 达普IC芯片交易网 > 新闻中心 > 科技成果 > 正文
  • RSS
  • 罗门哈斯电子材料与IBM合作开发32纳米和22纳米制程的CMP技术
    http://www.ic72.com 发布时间:2008/3/21 13:31:00

      为半导体行业提供高级化学机械研磨(CMP)技术的罗门哈斯公司电子材料公司,继与IBM公司签署协议共同开发为32纳米以下制程的注入提供支持的电路图案成形(patterning)材料和工艺后,近日又宣布与IBM签署了另一项联合开发协定。此项合作将专注于开发用于32纳米和22纳米技术节点的铜线和低绝缘(Low-K)介质集成的CMP工艺技术。

      根据该协议,两家公司将制定出一个完整的CMP耗材方案来支持32纳米和22纳米制程半导体器件的大规模生产。

      目前,罗门哈斯的研发集中在低压力研磨技术上,该技术在恶劣的条件下仍然可以实现大规模、可重演的生产。罗门哈斯提供多种特定用途的CMP耗材组合,并开发出了用于下一代技术节点的突破性技术,同时满足了器件制造商的低成本需求。

      “随着技术越来越复杂,要成功制造器件,研磨垫和研磨液技术变得至关重要”,IBM的半导体制程技术高级经理Dr. Jeffrey Hedrick说,“把罗门哈斯在电子材料领域全球闻名的专业能力与IBM在CMP制程技术方面的丰富知识相结合,有助于我们应对未来CMP技术的挑战。”

      “30年来IBM一直是我们的重要客户和合作伙伴,实际上它也是世界上首家把CMP技术引入到半导体制造过程的公司,”罗门哈斯电子材料部CMP技术总裁Sam Shoemaker说:“从那以后起,这种合作关系使我们一起为CMP研磨垫成功开发了好几个工业标准平台。我们希望这次与IBM的新合作能够有助于解决在铜互连方面的几个关键性问题,这些问题的解决将会惠及IBM及其客户,并最终促成有益于半导体工业的技术进步。”

      “开发用于先进技术节点的CMP耗材现在变得极为复杂,”罗门哈斯电子材料的首席技术官Cathie Markham解释说,“要成功研发用于32纳米和22纳米技术节点的CMP制程,需要彻底了解不同制程条件下研磨垫,研磨液和调节剂之间的相互作用。而罗门哈斯在研磨垫,聚合物,研磨液以及CMP制程方面的专业性,决定了罗门哈斯在开发新一代CMP制程相关技术方面拥有着独一无二的优势。”

      双方将在IBM位于纽约的Yorktown Heights研发部门、Albany NanoTech项目基地--UAlbany NanoCollege,以及位于特拉华(Delaware)州Newark和亚里桑那(Arizona)州Phoenix的罗门哈斯研发中心开展合作。


    www.ic72.com 达普IC芯片交易网
  • 行业动态
  • 市场趋势
  • 政策法规
  • 新品发布
  • Baidu

    IC快速检索:abcdefghijklmnopqrstuvwxyz0123456789
    COPYRIGHT:(1998-2010) IC72 达普IC芯片交易网
    客户服务:service@IC72.com 库存上载:IC72@IC72.com
    (北京)联系方式: 在线QQ咨询:点击这里给我发消息 联系电话:010-82614113 传真:010-82614123
    京ICP备06008810号-21 京公网安备 11010802032910 号 企业资质