近期举行的SPIE先进光刻技术会议上，ASML、Canon和Nikon相继介绍了他们各自的极紫外（EUV）光刻技术发展路途。

　　SPIE会上，众尖端芯片制造商就以下观点达成了一致：到22纳米及以下节点，必将使用EUV技术。目前为止，对于22纳米节点，除了EUV技术之外别无选择。

　　目前，众多设备厂商均争相发展EUV技术，力求取得领先地位，占得先机。