在SPIE光刻会议上，MolecularImprintsInc.(MII)公司推出了最新纳米压印光刻设备Imprio300,并已经收到SEMATECH订单。

　　在上代产品Imprio250基础上，Imprio300的吞吐能力提高了2.5倍达到4wph，并具有业界最高分辨率及最低CoO，适用于32nm及以下节点的制造工艺及芯片原型开发。

　　MII公司CEOMarkMelliar-Smith表示，Imprio300甚至能够用于22nm工艺开发。Melliar-Smith称，吞吐能力的提高将带来CoO的降低。相信当纳米压印光刻设备生产能力达到20wph后，将会是30nm以下最具成本优势的光刻方式，这也是我们追求的目标。

　　Imprio300的overlay精度在测试芯片上可以达到10nm以下。

    Imprio300将在2008年中期发货至SEMATECH联盟成员Albany大学CNSE中。