中微公司是一家以亚洲为基地的新兴的半导体设备公司，为全球先进的芯片生产厂家提供一系列因提高产能而降低制造成本的高端芯片生产设备。经过近三年的潜心开发与反复试验，该公司日前发布了面向高端制程的Primo系列12英寸等离子刻蚀和化学薄膜沉积设备，一举撼动了国际设备巨头的神经。

　　以亚洲为基地，服务全球半导体产业

　　中微在全球共有250名员工, 资深的技术及管理人员达85人，研发和制造中心在中国，销售总部位于新加坡。在日本、韩国和中国台湾地区均设有分公司和办事处，未来还将在欧洲和美国设立办事机构。公司的200多家供应商遍布全球，但是70%的主要供应商都位于亚洲地区。中微通过两轮融资已经成功融得1.1亿美元，此外还9千万美元的资本后备。

　　在半导体设备产业，将总部设在亚洲的很少，对此，中微董事长兼首席执行官尹志尧博士认为，总部及研发中心设在亚洲具有非常多的优势：一、地利优势，这里靠近半导体芯片生产线，便于倾听并快速响应用户需求。二、人和优势，在中国，中微的发展得到了政府，特别是上海浦东区政府的大力支持，美国政府已经批准对中微公司核心器件的出口，而新加坡政府也支持中微国际在该国的建立。三、天时优势，全球半导体设备市场未来几年将维持8-10%的年均增长率，亚洲半导体设备市场将占全球市场的75%。在中国，本土晶圆厂将会快速增长，国外芯片厂也陆续将产能转移到国内，更多的中微设备将运往国内的先进的半导体芯片生产厂内。

　　实力雄厚的团队，打造符合高端制程的产品

　　公司的创始人尹志尧、陈爱华、杜志游等核心团队成员来自8个国家，拥有平均10-20多年的行业经验，曾经领导和参与过美国20多个成功的产品开发，是200多项专利技术的发明人。中微公司拥有极强的的创新能力。中微在设备研发之前，就对客户的需求做了

　　潜心研究，此后更是度过了长达三年的刻苦攻关，也正因为如此，中微公司日前推出的具有自主知识产权的Primo系列12英寸等离子刻蚀和化学薄膜沉积设备，分别应用于关键的氧化物等介电质刻蚀，和浅槽隔离沉积及前金属电介质沉积。能够面向65纳米，45纳米的器件制造工艺，并且能扩展到未来更先进的32纳米工艺时代。

　　Primo系列设备由于设计性能出众，性价比优越，初出茅庐就足以撼动国际半导体设备巨头的神经。比如，采用了最新的技术和独特的反应室设计。这两种设备独特的小批量多反应器系统，使其与同类产品相比单位投资的芯片输出产率提高了35% 到50%以上，加工每片芯片的成本平均节省35%，并在芯片加工中有更优异的性能。

　　注重知识产权保护，公司长远发展可期

　　尹志尧认为，知识产权是高科技类公司发展的核心竞争力，中微公司非常注重知识产权开发与积累，有独立的技术知识产权和严格的管理制度，确保公司在未来的竞争力。公司雇佣了美国和中国第一流的律师事务所，参与技术知识产权的管理。公司尊重和保护客户、供应商、竞争对手的专利、知识产权和商业机密。

　　他表示，以亚洲为基地是的是公司的长期策略，公司在成立之初已经考虑到了未来发展的需要，尽管一期厂房只有6500平方米，但是现在仍有超过几万平方米土地供扩展之用。

　　目前，中微公司的一台电介质刻蚀设备和一台高压热化学沉积设备已经在客户的生产线上进行试用。值得一提的是，公司的产品第一次在芯片厂安装试运，仅用了七天时间就完成了装配、调试和工艺核准三个阶段的工作，比同类产品的快了很多。更多的设备产品，正准备运往亚洲各地区先进的半导体芯片生产厂家上线试运。预计中微在2009年将达到损益平常，并逐步走向赢利，公司从成立之初就采用国际会计准则，雇用了国际第一流的财会事务所，并严格遵守各种财税制度。