网站首页
IC库存
IC展台
电子资讯
技术资料
PDF文档
我的博客
IC72论坛
ic72 logo
搜索关键字: 所有资讯 行业动态 市场趋势 政策法规 新品发布 技术资讯 价格快报 展会资讯
  • 达普IC芯片交易网 > 新闻中心 > 技术信息 > 正文
  • RSS
  • SIGMA-C推出可防止65nm以下掩膜故障的DFM工具
    http://www.ic72.com 发布时间:2007/12/11 11:21:41

      SIGMA-C软件公司推出首个微印刷仿真/图像验证工具,可将电子设计转移到印制晶圆上,以防止65nm下的掩膜故障。 

      该工具的仿真范围比传统印刷大200倍。它可在芯片设计过程中识别热点,芯片大小为20×20μm。SOLID+有现货提供,售价140,000美元,此外还提供其它SIGMA-C模块,如3D掩膜和3D晶圆。

     




    www.ic72.com 达普IC芯片交易网
  • 行业动态
  • 市场趋势
  • 政策法规
  • 新品发布
  • Baidu

    IC快速检索:abcdefghijklmnopqrstuvwxyz0123456789
    COPYRIGHT:(1998-2010) IC72 达普IC芯片交易网
    客户服务:service@IC72.com 库存上载:IC72@IC72.com
    (北京)联系方式: 在线QQ咨询:点击这里给我发消息 联系电话:010-82614113 传真:010-82614123
    京ICP备06008810号-21 京公网安备 11010802032910 号 企业资质