网站首页
IC库存
IC展台
电子资讯
技术资料
PDF文档
我的博客
IC72论坛
ic72 logo
搜索关键字: 所有资讯 行业动态 市场趋势 政策法规 新品发布 技术资讯 价格快报 展会资讯
  • 达普IC芯片交易网 > 新闻中心 > 厂商动态 > 正文
  • RSS
  • ASMI, Hitachi签订ALD专利授权协议,用于45纳米结点的叠层栅应用
    http://www.ic72.com 发布时间:2007/12/5 13:19:00

      ASM International N.V.和Hitachi Kokusai Electric Inc. 签订了一项在原子层沉积工艺上的授权协议。根据协议文件,荷兰的ASMI公司将授权日本的Hitachi Kokusai公司使用其原子层沉积(ALD)专利,协议条件未透露。

      ASMI是ALD技术上的先锋,据说是Intel Corp.公司的主要ALD五金|工具供应商。芯片巨人Intel使用ALD作为沉积high-k 材料的工具,在45纳米结点的叠层栅应用。

      Hitachi Kokusai也在推动ALD技术的发展。“我们推进批ALD技术已有一段时间”Hitachi Kokusai总经理 Shoichiro Izumi表示。“我们能相信这项协议可以使ALD技术得到进步,并且我们将为客户提供更多的优势。”

      Aixtron, Applied, Aviza, TEL和其他一些公司也出售ALD工具。Tokyo Electron Ltd. (TEL)据报道已取得IBM Corp.DE "fab 俱乐部"或者是技术联盟的高介电薄膜fab-tool业务。


    www.ic72.com 达普IC芯片交易网
  • 行业动态
  • 市场趋势
  • 政策法规
  • 新品发布
  • Baidu

    IC快速检索:abcdefghijklmnopqrstuvwxyz0123456789
    COPYRIGHT:(1998-2010) IC72 达普IC芯片交易网
    客户服务:service@IC72.com 库存上载:IC72@IC72.com
    (北京)联系方式: 在线QQ咨询:点击这里给我发消息 联系电话:010-82614113 传真:010-82614123
    京ICP备06008810号-21 京公网安备 11010802032910 号 企业资质